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1.测量台、曝光台：是携带硅片的工作台。
2.激光：即光源，光刻机的核心设备之一。
3.光束矫正器：矫正光束入射位置，使激光尽可能平行。
4.能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过度都会影响成像质量。
5.光束形状设置：将光束设置为圆形、环形等不同形状，不同的光束条件具有不同的光学特性。
6.遮光器：在不需要曝光的情况下，阻止光束照射硅片。
7.能量探测器：检查光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。
8.掩模：一块内部刻有线路设计图的玻璃板，贵得要几十万美元。
9.掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度为nm级。
10.物镜：物镜用于补偿光学偏差，并将线路图等比例降低。
11.硅片：由硅晶体制成的圆片。硅片有多种规格。规格越大，产量越高。题外话，由于硅片是圆的，因此需要在硅片上剪一个空缺来确定硅片的坐标系。根据缺口的形状，可分为两种类型，即flat、 notch。
12.内部封闭框架和减震器：将控制台与外部环境隔离，保持水平，减少外部振动的影响，保持稳定的温度和压力。
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